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應(yīng)用領(lǐng)域
拋光材料
- 分類(lèi):產(chǎn)品應(yīng)用
- 作者:
- 來(lái)源:
- 發(fā)布時(shí)間2022-11-22 22:39
- 訪問(wèn)量:
拋光材料
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納米磨料,以其獨(dú)特的表面精度,應(yīng)用于行多行業(yè)中。在拋光作業(yè)中,硅溶膠納米球形材料作為理想的拋光液被使用,結(jié)果得到的研磨片表面光滑如鏡,如晶體材料、寶石、光學(xué)鏡片、精密陶瓷的表面拋光。
高度集成化的現(xiàn)代電子元器件,要求基體上具有一個(gè)高度精密平面化表面,硅溶膠納米球形顆粒作為拋光液,使得精細(xì)平面化過(guò)程成為一種容易制得的過(guò)程。
本公司長(zhǎng)期從事納米級(jí)材料生產(chǎn)和研發(fā),擁有先進(jìn)的生產(chǎn)工藝各檢測(cè)手段,制造的納米級(jí)拋光材料質(zhì)量穩(wěn)定、純度高??蔀閺V大顧客提供5-100納米的顆粒直徑、濃度10-50%的拋光液。該系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于晶片、半導(dǎo)體、藍(lán)寶石、光學(xué)鏡片等材料表面精細(xì)化加工。
品名
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特點(diǎn)
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用途
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說(shuō)明
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X10
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5-6nm
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晶片、寶石、鏡片
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極小粒子、精細(xì)拋光
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P20
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20-30nm
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半導(dǎo)體、光學(xué)鏡片、藍(lán)寶石
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粗拋、中等去除率
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P50
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40-60nm
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晶片、寶石、鏡片
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粗拋、中等去除率
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P80
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60-80nm
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半導(dǎo)體、光學(xué)鏡片、藍(lán)寶石
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粗拋、中等去除率
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P100
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80-100nm
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半導(dǎo)體、光學(xué)鏡片、藍(lán)寶石
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粗拋、更高去除率
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以上產(chǎn)品含量可選擇20-50%,客戶(hù)可根據(jù)自身要求添加5%KOH溶液調(diào)節(jié)pH值或5%HCl溶液進(jìn)行調(diào)節(jié),同時(shí)可用純凈水稀釋到所需的比例。
保質(zhì)期:1年
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